发明名称 |
半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统 |
摘要 |
本发明公开了一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统,它用于对半导体薄膜材料透过率均匀性的检测。测试系统由光源、单色仪、光学系统、二维步进扫描装置、信号接收装置、数据处理设备和计算机组成。系统利用紫外波段半导体外延材料的透射率在其吸收边附近极为灵敏的特性,通过对其吸收边附近相应波长时透射率的面分布的测试及分析,可以对材料的均匀性做出定量分析和评价。 |
申请公布号 |
CN100541177C |
申请公布日期 |
2009.09.16 |
申请号 |
CN200710170724.0 |
申请日期 |
2007.11.21 |
申请人 |
中国科学院上海技术物理研究所 |
发明人 |
苏志国;许金通;张文静;胡其欣;袁永刚;李向阳;刘骥 |
分类号 |
G01N21/59(2006.01)I |
主分类号 |
G01N21/59(2006.01)I |
代理机构 |
上海新天专利代理有限公司 |
代理人 |
郭 英 |
主权项 |
1.一种半导体薄膜材料紫外透过率均匀性测试系统,它由光源(1)、单色仪(2)、光学系统(3)、二维步进扫描装置(4)、信号接收装置(5)、信号处理和数据采集设备(6)和计算机(7)组成;光源(1)发出的连续紫外光经单色仪(2)转换为半导体薄膜材料的吸收边附近的相应波长的紫外单色光,紫外单色光经光学系统(3)汇聚在二维扫描平台上的测试样品(8)上的某个测试区域上,信号接收装置(5)接收对该区域透过率测量的信号并经信号处理和数据采集设备(6)的数据处理后存入计算机,移动二维步进装置(4)重复上述透过率测量过程,可以得到测试样品(8)各个测量区域的透过率数据,最后由计算机对测量数据进行统计、处理得到测试样品(8)的透过率均匀性测量值。 |
地址 |
200083上海市玉田路500号 |