浸没曝光设备和制造装置的方法

摘要

一曝光设备包括一投射光学系统，其被组构成经由液体将原件的图案投射至基板上，以使该基板暴露至光线；一工作台机件，其包括一被组构成固持该基板之工作台；一浸没单元，其被组构成供应一液体至该基板或该工作台与该投射光学系统间之间隙，且由该间隙回收该液体；及一控制器，被组构成在决定该液体藉由该浸没单元的回收被完成直至一目标位准之后，如果接收到一电源关闭请求，则该控制器关掉至该浸没单元的电源。