用于低温CVD系统中的前驱物解离作用控制及气体反应动力的独立辐射气体预热法

摘要

本发明揭示一种用以输送前驱材料至处理室的方法与设备。该设备包含一气体分配组件，该组件具有多个气体输送区域。每个区域包含一气室，该气室具有一用以接收前驱物气体的入口以及至少一个非热能能量源，例如红外线光源。该至少一个非热能能量源可以改变，以控制红外线光源的波长强度。

主权项

1. 一种气体分配组件，其包含：一主体，该主体具有至少一个入口以从至少两个气体源提供一前驱物气体至多个气室；至少一个非热能能量源，其提供能量给来自该至少两个气体源的其中一者或两者的该前驱物气体，以及提供能量给该多个气室的每一个气室；以及一冷却剂来源，其与该至少一个非热能能量源连通，其中独立控制该多个气室的每一个气室中的非热能能量。