发明名称 2层挠性基板及其制造方法
摘要 本发明提供形成了附着性、绝缘可靠性等高的铜覆膜层的2层挠性基板及其制造方法。本发明的2层挠性基板,其特征为,在绝缘体薄膜的至少一面上不经粘接剂直接形成基底金属层,在该基底金属层上形成所希望厚度的铜覆膜层的2层挠性基板中,在绝缘体薄膜上由于镀法形成主要含有(1)钒的比例是4~13重量%、钼的比例是5~40重量%、剩余部分是镍的镍-钒-钼合金,或者(2)至少含有2重量%的钒且钒和铬的合计是4~13重量%、钼的比例是5~40重量%、剩余部分是镍的镍-钒-铬-钼合金的膜厚3~50nm的基底金属层,在该基底金属层上形成铜覆膜层。
申请公布号 CN100542374C 申请公布日期 2009.09.16
申请号 CN200580034536.4 申请日期 2005.08.24
申请人 住友金属矿山株式会社 发明人 永田纯一;浅川吉幸
分类号 H05K1/09(2006.01)I;H05K3/38(2006.01)I;C23C14/14(2006.01)I;C23C18/16(2006.01)I;C23C28/00(2006.01)I 主分类号 H05K1/09(2006.01)I
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 王 健
主权项 1.一种2层挠性基板,其特征为,在绝缘体薄膜的至少一面上不经粘接剂直接形成基底金属层,接着在该基底金属层上形成铜覆膜层的2层挠性基板中,上述基底金属层是由用干镀法形成的、含有镍-钒-钼合金的膜厚3~50nm的基底金属层构成,所述镍-钒-钼合金的钒的比例是4~13重量%、钼的比例是5~40重量%、剩余部分为镍。
地址 日本东京都