| 摘要 |
一种用以控制电浆处理室之中的气流流导之设备。电浆处理室设有一上电极及一下电极，而将上电极设置成面对着用于支撑一基板的下电极。此设备包含一延伸用底环，设成同心地环绕下电极，而此延伸用底环系具有形成在其中的第一组之径向槽。此设备亦包含一局限环装置。此局限环装置系至少具有第一组之可压扁的局限环及第二组之可压扁的局限环，而将第二组之可压扁的局限环设成以可动方式与第一组之可压扁的局限环耦合。此设备更包含一机构，设成至少可将第一组之可压扁的局限环及第二组之可压扁的局限环压扁及拉长，俾能在以下两状态之间，控制流过第一组之径向槽的气流流导，即（a）开启（ON）状态，为气流不被阻挡的状态，与（b）关闭（OFF）状态，为气流被阻挡的状态。 |
