用于沉积具有可调节的性质的材料的方法和装置

摘要

本发明公开了一种用于利用等离子体增强化学气相沉积在衬底上沉积具有可调节光学和抗刻蚀性质的膜的方法和系统。室具有等离子体源和耦合到RF源的衬底夹持器。衬底被放置在衬底夹持器上。TERA层被沉积在衬底上。选择由RF源提供的RF功率的量，使得TERA层的至少一部分的沉积速率大于在不向衬底夹持器施加RF功率时的沉积速率。

主权项

1.一种用于在衬底上沉积材料的方法，所述方法包括：将衬底放置在具有等离子体源的室中并置于耦合到RF源的衬底夹持器上；利用PECVD在所述衬底上沉积可调节刻蚀速率抗反射涂层层，其中选择由所述RF源提供的RF功率的量，使得所述可调节刻蚀速率抗反射涂层层的至少一部分的沉积速率大于在不向所述衬底夹持器施加RF功率时的沉积速率；净化所述室；在所述室中创建低压；以及执行解夹持操作。