| 发明名称 | 光刻装置及其应用方法 | ||
| 摘要 | 本发明描述了一种方法，其用于确定通过光刻装置的投影透镜的光的偏振态。将偏振结构布置在光刻装置的投影透镜的目标侧上。通过测量经过偏振结构的光，能够确定关于投影透镜的偏振特征的信息。 | ||
| 申请公布号 | CN100541332C | 申请公布日期 | 2009.09.16 |
| 申请号 | CN200410011467.2 | 申请日期 | 2004.12.21 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·M·范迪克;D·G·弗拉格尔洛;M·F·H·克拉亚斯森;L·特雷格;T·厄特迪克 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 1.一种在光刻投影装置中测量偏振的方法，其包括：通过光刻投影装置的投影透镜投射具有偏振态的光；其中所述被投射的光经过位于投影透镜的目标面的偏振敏感结构，该偏振敏感结构至少包括具有第一偏振特征的第一区域和具有不同于第一偏振特征的第二偏振特征的第二区域；以及分析已经通过偏振敏感结构的光以确定偏振态。 | ||
| 地址 | 荷兰维尔德霍芬 | ||