| 发明名称 | 湿敏表面的化学机械抛光和为此的组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于化学机械抛光(CMP-也称为化学机械平坦化)的组合物，所述化学机械抛光用于加工高级光学、光子或微电子设备，其中所述组合物为微乳液。 | ||
| 申请公布号 | CN101536171A | 申请公布日期 | 2009.09.16 |
| 申请号 | CN200780041666.X | 申请日期 | 2007.11.07 |
| 申请人 | 圣劳伦斯纳米科技有限公司 | 发明人 | 李玉卓 |
| 分类号 | H01L21/461(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/461(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 1. 一种用于抛光表面的CMP溶液，其为具有反相胶束体系的微乳液，其包括：(a)分散相；(b)连续相；和(c)表面活性剂。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||