光组组成物及多层阻剂系统之多次曝光方法

摘要

一种方法及光阻组成物。光阻组成物包含：聚合物，具有含有内酯基团之第一重复单元、能产生硷之热硷产生剂、以及光敏酸产生剂。聚合物具有之特性为，实质可溶于第一溶剂，以及在加热聚合物后，变成实质不可溶。本方法包含：形成光阻薄膜，其包括聚合物、能释出硷之热硷产生剂、光敏酸产生剂、以及溶剂。图案式成像薄膜。成像包含曝光薄膜于辐射，导致产生酸催化剂。于水硷中显影薄膜，导致移除硷可溶区域，以及形成图案化层。烘烤图案化层于温度以上，导致热硷产生剂释出硷于图案化层内，且导致图案化层变成不可溶于溶剂。