硫属化物膜及其制造方法

摘要

本发明系提供一种硫属化物膜及其制造方法，其系于基板上之绝缘层中所形成之接触孔内藉由溅射成膜之硫属化物膜，于前述接触孔之至少底部形成底层膜，于该底层膜上且前述接触孔内埋入由硫属化合物所构成之结晶层。