发明名称 成膜方法和成膜装置
摘要 本发明提供一种成膜方法,在形成多元系金属氧化物膜时,能够提高含有元素的组成比和膜厚等的再现性。该成膜方法为,向可抽真空的处理容器(4)内供给将多种有机金属原料气化所产生的有机金属原料气体,在被处理体(W)的表面形成多元系金属氧化物膜,其中,在开始对上述被处理体进行成膜处理之前,通过将模拟被处理体搬入上述处理容器(4)内,并流入上述有机金属原料气体,进行至少相当于3次的模拟成膜处理。因此,在形成多元系金属氧化膜时,就能够提高含有元素的组成比和膜厚等的再现性。
申请公布号 CN100541737C 申请公布日期 2009.09.16
申请号 CN200680000505.1 申请日期 2006.01.11
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 松本贤治;迫田智幸;那须胜行;池田岳
分类号 H01L21/316(2006.01)I;C23C16/40(2006.01)I 主分类号 H01L21/316(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 代理人 龙 淳
主权项 1.一种成膜方法,向可抽真空的处理容器内供给将含有含Pb的有机金属原料的多种有机金属原料气化所产生的有机金属原料气体,在被处理体的表面形成多元系金属氧化物膜,其特征在于:在对所述被处理体的成膜处理结束之后,形成继续进行所述处理容器的抽真空、但停止所述有机金属原料气体的供给的空转状态,在该空转状态后,通过将模拟被处理体搬入所述处理容器内,并流入所述有机金属原料气体,进行至少相当于3次的模拟成膜处理,在该模拟成膜处理之后,进行对下一个要处理的被处理体的成膜处理。
地址 日本东京