发明名称 利用单相及双相介质移除粒子的设备
摘要 本发明之实施例提供了利用清洗材料来清洁具有细微特征部之图型化基板的设备。利用此清洗材料的设备具有可清洗包含细微特征部的图型化基板而实质上不损坏该特征部的优点。该清洗材料系为液相、或液/气相之流体,且可于装置特征部周围变形,因此清洗材料实质上不会损坏装置特征部或可降低对其所有的破坏。包含高分子量聚合化合物之高分子的清洗材料捕获基板上的污染物。此外,清洗材料截留污染物而不使其返回基板表面。一或多个此高分子量聚合化合物之高分子形成聚合物长链,其亦可交联而形成网状构造(或聚合物网)。相较于知清洗材料,此聚合物长链及/或聚合物网显示了捕获及截留污染物之优异能力。
申请公布号 TW200939329 申请公布日期 2009.09.16
申请号 TW097148584 申请日期 2008.12.12
申请人 兰姆研究公司 发明人 梅世礼;史琳瓦森 撒第斯;彭 葛伦特;朱济;龚世中;帕德兰斯尼克 追哥;曼第瑞塔 雅真
分类号 H01L21/30(2006.01);C11D3/37(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 许峻荣
主权项
地址 美国