| 发明名称 | 使导电层图形化的方法、制备偏振片的方法以及使用该方法制备的偏振片 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种使导电层图形化的方法，一种使用该方法制备偏振片的方法和使用所述制备偏振片的方法制备的偏振片，以及具有该偏振片的显示器件。所述使导电层图形化的方法包括(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起，以及(b)在树脂层上涂敷导电填充材料，从而利用图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形。 | ||
| 申请公布号 | CN100541243C | 申请公布日期 | 2009.09.16 |
| 申请号 | CN200680004176.8 | 申请日期 | 2006.06.13 |
| 申请人 | LG化学株式会社 | 发明人 | 金德柱;韩尚澈;金钟勋 |
| 分类号 | G02B5/30(2006.01)I | 主分类号 | G02B5/30(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京金信立方知识产权代理有限公司 | 代理人 | 朱 梅;徐志明 |
| 主权项 | 1、一种使导电层图形化的方法，其包括：(a)使树脂层图形化以形成凹槽和突起；以及(b)仅在所述树脂层的凹槽，仅在其突起，或者仅在其一部分凹槽和一部分突起上选择性地涂敷导电填充材料，从而利用所述图形化的树脂层上的凹槽和突起的立体形状形成图形，其中，所述步骤(b)使用选择性湿涂或干涂法进行。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||