发明名称 调光装置、照明装置及投影机
摘要 本发明提供一种能够减少返回到光的出射区域的光量的调光装置、照明装置及投影机。对从预定的出射区域(发光部)出射的光束的透射光量进行调整的调光装置(5)具有:具有沿相对于所述光束的中心轴大致正交方向的转动轴(AX1、AX2)的转动部件(齿轮)(54、55);由转动部件(54、55)保持且随着该转动部件(54、55)的转动对该光束的至少一部分进行遮蔽的遮光部件(56、57)。遮光部件(56、57)具有对入射的光的透射进行限制并遮光的遮光面(56A、57A),对遮光面(56A、57A)施加使被该遮光面(56A、57A)反射且到达出射区域的光量相对于向该遮光面(56A、57A)入射的光量减少的加工。
申请公布号 CN101533210A 申请公布日期 2009.09.16
申请号 CN200910004470.4 申请日期 2009.03.04
申请人 精工爱普生株式会社 发明人 中野宽久
分类号 G03B21/14(2006.01)I;G03B21/00(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I 主分类号 G03B21/14(2006.01)I
代理机构 北京市中咨律师事务所 代理人 陈海红;段承恩
主权项 1. 一种调光装置,其调整从预定的出射区域出射的光束的透射光量,其特征在于,具有:转动部件,该转动部件具有沿与所述光束的中心轴大致正交方向的转动轴;和遮光部件,该遮光部件由所述转动部件保持、且伴随着该转动部件的转动对该光束的至少一部分进行遮蔽,所述遮光部件,具有对入射的光的透射进行限制并遮光的遮光面,对所述遮光面,施加使由该遮光面反射且到达所述出射区域的光量相对于入射于该遮光面的光量减少的加工。
地址 日本东京都