| 摘要 |
本发明之课题在于提供一种光学薄膜之制法，其不会因气化的低分子量化合物附着于基底薄膜背面及涂布膜面而导致污染不均。而用以解决问题之手段为一种光学薄膜之制法，其系在连续所搬送之带状基底薄膜14上，涂布硬化性涂布液，在乾燥区32，利用热风以使涂布层乾燥之后，在硬化区36，使该涂布层硬化；其中使间隔介于乾燥区32与硬化区36之间而设置中间区34的同时，也使中间区34之温度成为较乾燥区32之温度与硬化区36之温度中任一温度为低的方式来加以控制，并且，利用凝结抑制手段以防止在乾燥区32与硬化区36所发生气化之低分子量化合物的凝结。 |
