形成高品质之氧化钛膜的原子层沉积法

摘要

本发明提供一种形成高品质之氧化钛膜的原子层沉积法，包含以下步骤：(a)利用原子层沉积法于一减压环境内引入一含有Ti的前驱物与H#sB!2#eB!O，以于一基板上沉积一呈非晶态的孕核层；及(b)利用该含有Ti的前驱物与H#sB!2#eB!O以高于该孕核层的沉积温度于该孕核层上预先形成独立的锐钛矿晶核，并持续经由晶粒成长来形成氧化钛膜。