一种用于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的水冷基底托架装置

摘要

本实用新型涉及一种用于直流弧光放电等离子体化学气相金刚石薄膜沉积的水冷基底托架装置，它由不锈钢真空法兰、聚砜法兰、“T”型基底托架、水箱连接件、冷却水套管、热电偶套管、热电偶、水嘴、锁紧螺母组成，其特征在于“T”型基底托架背面、水箱连接件中心部位分别焊接有热电偶套管、冷却水套管，两者由螺纹连接后形成水循环空间，“T”型基底托架通过聚砜法兰与反应腔体绝缘，并可上下移动、旋转，托架表面温度由热电偶测量，所有部件均可灵活拆卸，真空、水冷性能好，并采用在此装置制备出高品质的金刚石薄膜。

主权项

1、一种用于直流弧光放电PCVD金刚石薄膜制备的水冷基底托架装置，它包括有“T”型基底托架(2)、锁紧螺母(6)、水箱连接件(7)、水嘴(8)、铠装热电偶(9)、锁紧件(10)、“O”型密封圈(12)，冷却水套管(13)、热电偶套管(14)、石英件(15)，并通过不锈钢真空法兰(3)、聚砜法兰(4)、不锈钢压片(5)、锁紧螺母(6-1)、锁紧螺栓(11)、“O”型密封圈(12-1)与反应腔(2)装配，其特征在于：反应腔(1)底部中心位置由氩弧焊焊接有不锈钢真空法兰(3)，聚砜法兰(4)由“O”型密封圈(14-1)、不锈钢压片(5)、锁紧螺栓(11)固定在不锈钢真空法兰(3)中；通过“O”型密封圈(12-2)、锁紧螺母(6-1)使其固定在聚砜法兰(4)中，并可以通过调整锁紧螺母(6-1)松紧程度实现上下移动、旋转。