发明名称 具有光阻层的工件的加工方法
摘要 一种使用曝光装置(30)来加工具有光阻层(12)的工件(10)的加工方法,此方法是在上述曝光装置(30)的物镜(35a)与上述光阻层(12)之间配置可透过上述曝光装置(30)发出的光的透明薄片(20),通过上述透明薄片(20)将上述光阻层(12)曝光。
申请公布号 TW200938953 申请公布日期 2009.09.16
申请号 TW098100166 申请日期 2009.01.06
申请人 富士软片股份有限公司 发明人 宇佐美由久
分类号 G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 G03F7/004(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本