首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
具有光阻层的工件的加工方法
摘要
一种使用曝光装置(30)来加工具有光阻层(12)的工件(10)的加工方法,此方法是在上述曝光装置(30)的物镜(35a)与上述光阻层(12)之间配置可透过上述曝光装置(30)发出的光的透明薄片(20),通过上述透明薄片(20)将上述光阻层(12)曝光。
申请公布号
TW200938953
申请公布日期
2009.09.16
申请号
TW098100166
申请日期
2009.01.06
申请人
富士软片股份有限公司
发明人
宇佐美由久
分类号
G03F7/004(2006.01);G03F7/20(2006.01)
主分类号
G03F7/004(2006.01)
代理机构
代理人
詹铭文;萧锡清
主权项
地址
日本
您可能感兴趣的专利
TREATMENT OF CYSTIC DISEASE WITH TNF--g(a)
Photoprotective composition in foam form containing water soluble ultraviolet filters and surface active agents
Apparatus and method for detecting a splice in a running length of web
Inspection of skin rashes
De-odourising apparatus
Water repelling camera lens attachment
Fitted mounting for flush-fitted electrical equipment
Optimising well numbers in oil and gas fields
Peptide
A gas discharge lamp and method for manufacturing the same
Liquid separation constrictor
Vehicle poisoning
Safety devices for ladders
Safety bayonet socket for an electric lamp bulb
Typewriter
A Protein
Linear tracking UV exposure system
Voltage controlled band pass filters
Heated cathodes and their manufacture
Screen for a window