研磨垫及其制造方法

摘要

本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。

主权项

1.一种以含有有机多异氰酸酯、多元醇和固化剂的聚氨酯为主要构成材料的研磨垫，其中所述固化剂的主成分为4，4’-亚甲基双(邻氯苯胺)，所述多元醇包含数均分子量为500～1600、分子量分布小于1.9的聚丁二醇，其中分子量分布为重均分子量/数均分子量。