| 发明名称 |
具有复数个电浆反应区域的包括复数个处理平台的电浆反应室 |
| 摘要 |
一种电浆反应室包括反应室主体，于反应室主体内设置复数个处理平台。每一处理平台内设置有一个可旋转基片支座。每一基片支座上方设置有一个与电浆参与反应区同位之电浆生成区，在每一该同位电浆生成区上方相邻地设置有一个相应的相邻电浆生成区，并且该同位电浆生成区与该相应的相邻电浆生成区相连通。射频能量源与每一相邻电浆生成区相连接。 |
| 申请公布号 |
TW200939900 |
申请公布日期 |
2009.09.16 |
| 申请号 |
TW097107559 |
申请日期 |
2008.03.04 |
| 申请人 |
中微半导体设备（亚洲）有限公司 |
发明人 |
陈爱华;刘忆军;陈金元;罗力;倪图强;尹志尧;何乃明 |
| 分类号 |
H05H1/24(2006.01);H01L21/30(2006.01);H01L21/67(2006.01) |
主分类号 |
H05H1/24(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
开曼群岛 |
