| 主权项 |
1.一种钥匙结构改良，系于一钥匙胚上形成至少一平面，其特征在于该平面设有：至少一凹槽，该凹槽具有一开口；一组配于该凹槽内的弹性元件以及一限位于该凹槽内且受该弹性元件推顶之抵顶元件，其中该抵顶元件具有一露出于该开口外之抵顶前缘。2.如申请专利范围第1项所述的钥匙结构改良，其中该钥匙胚相对之两侧皆设有一平面且两平面各别设一凹槽组设该弹性元件以及该抵顶元件。3.如申请专利范围第1项所述的钥匙结构改良，其中该凹槽与该抵顶元件之间更包括一套筒，该套筒邻近该开口之一端设有一止挡环将该抵顶元件限位于该止挡环与该弹性元件之间。4.如申请专利范围第3项所述的钥匙结构改良，其中该套筒系紧配于该凹槽内缘。5.如申请专利范围第1项所述的钥匙结构改良，其中该抵顶元件具有一内凹槽，该内凹槽之开口设在相对于该抵顶前缘之另一端以容置该弹性元件。6.如申请专利范围第1项所述的钥匙结构改良，其中该抵顶前缘呈圆形。7.如申请专利范围第1项所述的钥匙结构改良，其中该抵顶前缘呈多边之几何形状。8.如申请专利范围第1项至第7项中任一项所述的钥匙结构改良，其中该钥匙胚更设有至少一导轨。9.如申请专利范围第1项至第7项中任一项所述的钥匙结构改良，其中该钥匙胚上设有至少一密码部分而与一锁心相对应解锁。10.如申请专利范围第1项至第7项中任一项所述的钥匙结构改良，其中该钥匙胚上设有至少一密码部份以及至少一导轨。11.如申请专利范围第10项所述的钥匙结构改良，其中该密码部份得设于该导轨上。图式简单说明：图1为该钥匙胚上抵顶结构之分解图。图2为该抵顶结构之剖面图。图3为该抵顶结构之实施示意图。 |
