首页 产品 黄页 商标 征信
会员服务 注册 登录 
全部
 |
企业名
 |
法人/股东/高管
 |
品牌/产品
 |
地址
 |
经营范围
发明名称 Method for fabricating triple gate oxide of semiconductor device
摘要
申请公布号 KR100917058(B1) 申请公布日期 2009.09.10
申请号 KR20020086134 申请日期 2002.12.28
申请人 发明人
分类号 H01L21/31 主分类号 H01L21/31
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利
©  2024 传众  czvv.com