Verfahren zum Implantieren einer Ionensorte in einer Mikrostruktur durch gleichzeitiges Reinigen der Implantationsanlage

摘要

Durch Betreiben einer Implantationsanlage mit einem Quellengas, das einen Halogenanteil von 66 Atomprozent oder weniger im Vergleich zur Gesamtzusammensetzung des Quellengases besitzt, kann eine In-situ-Reinigungswirkung erreicht werden, während ein Implantationsprozess ausgeführt wird.