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经营范围
发明名称
Verfahren zum Ätzen eines Siliciumwafers, Ätzvorrichtung und Ätzmittel
摘要
申请公布号
DE19734879(B4)
申请公布日期
2009.09.10
申请号
DE19971034879
申请日期
1997.08.12
申请人
DENSO CORPORATION
发明人
TANAKA, HIROSHI;ABE, YOSHITSUGU;ITO, MOTOKI;INOUE, KAZUYUKI;KOSAKA, SATORU
分类号
C23F1/40;H01L21/306
主分类号
C23F1/40
代理机构
代理人
主权项
地址
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