发明名称 在光罩上制作倾斜线路的方法
摘要 本发明公开了在光罩上制作倾斜线路的方法,将待曝光的矩形图案分成若干面积相同的第一矩形区域,用相同的电子束剂量在各个第一矩形区域曝光;在光罩的阻剂层上形成第一阻剂矩形图案;将第一阻剂矩形图案分成若干面积不同的第二矩形区域,用不同的电子束剂量在各个第二矩形区域曝光;在光罩的阻剂层上形成第二阻剂矩形图案;根据重叠间距,将多个第二阻剂矩形图案重叠放置,形成倾斜线路;经过显影、去阻剂层以及蚀刻过程后在光罩上形成倾斜线路。所述的通过控制电子束尺寸、电子束剂量和矩形图案重叠间距,使倾斜线路的分辨率提高,不同倾斜角度线路的临界尺寸差距减小。
申请公布号 CN100538513C 申请公布日期 2009.09.09
申请号 CN200710126598.9 申请日期 2007.06.22
申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 发明人 郑成镐
分类号 G03F1/00(2006.01)I;G03F1/14(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F1/00(2006.01)I
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 逯长明
主权项 1. 一种在光罩上制作倾斜线路的方法,包括下列步骤:将待曝光的矩形图案分成若干面积相同的第一矩形区域,位于该矩形图案两端的第一矩形区域为第一边缘区域;用相同的电子束剂量在各个第一矩形区域曝光;在光罩的阻剂层上形成第一阻剂矩形图案;将第一阻剂矩形图案分成若干第二矩形区域,位于该第一阻剂矩形图案两端的第二矩形区域为第二边缘区域,第二边缘区域的面积比第一边缘区域面积小;第二边缘区域采用比第一边缘区域小的电子束剂量曝光,非边缘第二矩形区域采用与第一矩形区域相同的电子束剂量曝光;在光罩的阻剂层上形成第二阻剂矩形图案;根据重叠间距,重复上述步骤,形成多个第二阻剂矩形图案,并且将该多个第二阻剂矩形图案重叠放置,形成倾斜线路;经过显影、去阻剂层以及蚀刻过程后在光罩上形成倾斜线路。
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