发明名称 改性聚铝硅氧烷
摘要 本发明涉及改性聚铝硅氧烷。本发明提供不仅耐热性,而且透明性、粘合性、片材成型性良好的改性聚铝硅氧烷,含有该改性聚铝硅氧烷而成的光半导体元件封装材料,以及使用该封装材料封装光半导体元件而成的光半导体装置。所述改性聚铝硅氧烷是通过使式(I)表示的硅烷偶联剂与聚铝硅氧烷反应而得到的。式中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>及R<sup>3</sup>,分别独立地表示烷基或烷氧基,X表示甲基丙烯酰氧基、环氧丙氧基、氨基、乙烯基或巯基,其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>及R<sup>3</sup>之中,至少2者为烷氧基。
申请公布号 CN101525437A 申请公布日期 2009.09.09
申请号 CN200910004596.1 申请日期 2009.03.06
申请人 日东电工株式会社 发明人 片山博之;赤泽光治
分类号 C08G77/398(2006.01)I;H01L23/29(2006.01)I;H01L33/00(2006.01)I 主分类号 C08G77/398(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 熊玉兰;孙秀武
主权项 1.改性聚铝硅氧烷,其是通过使式(I)表示的硅烷偶联剂与聚铝硅氧烷反应而得到的,<img file="A2009100045960002C1.GIF" wi="850" he="260" />式中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>及R<sup>3</sup>,分别独立地表示烷基或烷氧基,X表示甲基丙烯酰氧基、环氧丙氧基、氨基、乙烯基或巯基,其中,R<sup>1</sup>、R<sup>2</sup>及R<sup>3</sup>之中,至少2者为烷氧基。
地址 日本大阪府茨木市下穗积1丁目1番2号