| 发明名称 | 钛、铝金属层叠膜蚀刻液组合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种蚀刻液组合物，其可以将在玻璃等绝缘膜基板、硅基板和化合物半导体基板上通过溅射法所形成的含有由钛或以钛为主成分的合金所构成的层和由铝或以铝为主成分的合金所构成的层的金属层叠膜一起进行蚀刻，且不对底层的基板等造成损伤，并将锥角控制在30～90度。其中，氟化物(除氢氟酸之外)的浓度为0.01～5质量％，特定的氧化剂的浓度为0.1～50质量％。 | ||
| 申请公布号 | CN100537847C | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
| 申请号 | CN200610009536.5 | 申请日期 | 2006.02.24 |
| 申请人 | 关东化学株式会社 | 发明人 | 清水寿和 |
| 分类号 | C23F1/16(2006.01)I;C23F1/20(2006.01)I;C23F1/26(2006.01)I | 主分类号 | C23F1/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 陈建全 |
| 主权项 | 1. 一种含有氟化物和氧化剂的蚀刻液组合物，其用于将含有由钛或以钛为主成分的合金所构成的层和由铝或以铝为主成分的合金所构成的层的金属层叠膜一起进行蚀刻，且用于使蚀刻后的锥角达到40度以下，其中，所述氟化物不包括氢氟酸，且所述氧化剂为硝酸或甲磺酸；所述氟化物的浓度为0.01～5质量％，所述氧化剂的浓度为0.1～30质量％。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||