流体喷射装置

摘要

本发明涉及一种流体喷射装置，其包括：喷嘴，其具有用于向基板吐出流体的吐出口；导向装置，其设在所述喷嘴的吐出口两侧端部，用于引导从所述吐出口喷射出的流体，使其能够均匀地喷射在基板的整个表面上。所述流体喷射装置通过改良的喷嘴结构，以垂直方向喷射流体，从而提高对基板的处理效率。

主权项

1. 一种流体喷射装置，其特征在于，包括：喷嘴，其具有用于向基板吐出流体的吐出口；导向装置，其设在所述喷嘴的吐出口两侧，用于引导从所述吐出口喷射出的流体，使其能够均匀地喷射在基板的整个表面上；所述导向装置包括第一流量集中槽及第二流量集中槽，其分别形成于所述吐出口的两侧端部，并且为使其流体喷射量大于所述吐出口的吐出量，其单位长度所对应的面积大于吐出口的单位长度所对应的面积。