发明名称 |
程序化单层复晶硅只读存储器单元的方法 |
摘要 |
本发明提供一种单层复晶硅可电程序化只读存储器(EPROM)单元的操作方法,该单层复晶硅EPROM单元包含有形成于一P型基底的N型井上的P信道浮置栅极晶体管,以及一N信道耦合组件;该P信道浮置栅极晶体管包含有P<sup>+</sup>漏极、P<sup>+</sup>源极、由该P<sup>+</sup>漏极与P<sup>+</sup>源极所定义的P信道、设于该P信道上的隧穿氧化层,以及设于该隧穿氧化层上的掺杂多晶硅浮置栅极;该N信道耦合组件包含有一多晶硅浮置电极,其电连接该P信道浮置栅极晶体管的掺杂多晶硅浮置栅极,且该多晶硅浮置电极电容耦合至形成于该P型基底上的控制掺杂区,该控制掺杂区与该N型井电性隔绝。 |
申请公布号 |
CN100538898C |
申请公布日期 |
2009.09.09 |
申请号 |
CN200410050095.4 |
申请日期 |
2004.07.02 |
申请人 |
联华电子股份有限公司 |
发明人 |
陈建宏;石忠勤 |
分类号 |
G11C16/04(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I |
主分类号 |
G11C16/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京三友知识产权代理有限公司 |
代理人 |
马娅佳 |
主权项 |
1. 一种程序化单层复晶硅只读存储器单元的方法,其特征在于,该单层复晶硅EPROM单元包含有形成于一P型基底的N型井上的P信道浮置栅极晶体管,以及一N信道耦合组件;该P信道浮置栅极晶体管包含有P+漏极、P+源极、由该P+漏极与P+源极所定义的P信道、设于该P信道上的隧穿氧化层,以及设于该隧穿氧化层上的掺杂多晶硅浮置栅极;该N信道耦合组件包含有一多晶硅浮置电极,其电连接该P信道浮置栅极晶体管的掺杂多晶硅浮置栅极,且该多晶硅浮置电极电容耦合至形成于该P型基底上的控制掺杂区,该控制掺杂区与该N型井电性隔绝;该方法包含有:使该P型基底接地;使该N型井接地;提供一负电压予该P信道浮置栅极晶体管的该P+漏极;使该P信道浮置栅极晶体管的该P+源极接地或浮置;以及提供一正电压予该控制掺杂区,使该正电压耦合至该掺杂多晶硅浮置栅极,而于其上产生一接近该正电压的耦合电压,造成该P信道浮置栅极晶体管的P信道在关闭状态下,该P+漏极与该N型井的接面产生空乏区,并由于带对带隧穿机制产生电子电洞对,其中电子经由该空乏区电场加速注入该掺杂多晶硅浮置栅极中,完成写入动作。 |
地址 |
台湾省新竹市 |