发明名称 | 衬底的处理方法、计算机存储介质以及衬底处理系统 | ||
摘要 | 本发明涉及衬底的处理方法、计算机存储介质以及衬底处理系统。在本发明中,在衬底上形成疏密的抗蚀剂图形的情况下,测定各个抗蚀剂图形尺寸,基于密的抗蚀剂图形的尺寸测定结果算出第一处理装置的修正值,基于疏的抗蚀剂图形的尺寸测定结果算出第二处理装置的修正值。基于这些算出结果,改变第一处理装置、第二处理装置中的处理条件,以后,以改变后的条件实施这些处理装置中的处理。 | ||
申请公布号 | CN101527259A | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
申请号 | CN200910004599.5 | 申请日期 | 2009.03.06 |
申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 大塚贵久 |
分类号 | H01L21/027(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 闫小龙;王小衡 |
主权项 | 1.一种衬底的处理方法,对衬底至少进行第一处理和第二处理,在衬底上形成抗蚀剂图形中的抗蚀剂部和/或空间部的尺寸不同的第一抗蚀剂图形和第二抗蚀剂图形,其中,具有如下工序:至少进行第一处理和第二处理,在衬底上形成第一抗蚀剂图形和第二抗蚀剂图形;然后,分别测定第一抗蚀剂图形和第二抗蚀剂图形的抗蚀剂部和/或空间部的尺寸;然后,基于上述测定的尺寸,对上述第一处理中的处理条件进行修正,并且,对上述第二处理中的处理条件进行修正,以后,以上述修正后的处理条件分别进行上述第一处理和上述第二处理,分别以预定的目标尺寸形成上述第一抗蚀剂图形和上述第二抗蚀剂图形。 | ||
地址 | 日本东京都 |