微特征工件处理装置和用于在微特征工件上批量沉积材料的方法

摘要

本发明提供了例如通过使用原子层沉积将材料沉积在微电子半导体上用于处理微特征工件的设备和方法。这些设备的一些包括微特征工件保持器，所述微特征工件保持器包括气体分配器。一个示范性实施方式提供了适于保持多个微特征工件的微特征工件保持器。所述工件保持器包括多个工件支撑件和气体分配器。所述工件保持器适于支撑呈以定距离间隔的关系的多个微特征工件，以在每个微特征工件的表面附近限定处理空间。所述气体分配器包括入口和多个出口，其中每个出口都设置为指引工艺气体流到处理空间的其中之一中。

主权项

1. 一种适于保持用于化学处理的多个微特征工件(W)的微特征工件保持器(100)，包括：纵向延伸件(120)，具有沿所述纵向延伸件的长度纵向隔开的多个工件支撑件(122)，所述工件支撑件适于支撑用于处理的呈定距离间隔的关系的所述多个微特征工件；以及纵向延伸气体输送导管(134)，由所述纵向延伸件(120)承载，并且具有入口(140)、第一出口(138)、和与所述第一出口纵向隔开的第二出口(138)，所述第一出口设置为在第一对工件支撑件中间指引工艺气体流，所述第二出口设置为在第二对工件支撑件中间指引工艺气体流。