智能化瓷砖真空离子镀膜设备

摘要

本发明属于真空镀膜技术领域，具体涉及一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备。一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统相连的真空室、转件架式多功能样品台、均布于真空室两侧的电弧金属离子源和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极位于转件架式多功能样品台上，并与真空室外气体离子清洗电源相连，电弧金属离子源为30个，离子源与镀件间距为150mm。具有镀膜层的质量和效果好，低损耗、体积小，膜-基结合力强的优点。

主权项

1、一种智能化瓷砖真空离子镀膜设备，包括与真空抽气系统(7)相连的真空室(4)、转件架式多功能样品台(5)、均布于真空室两侧的电弧金属离子源(2)和PLC可编程集中控制器，其特征是转件架式多功能样品台(5)与真空室绝缘，气体离子清洗源的清洗电极(6)位于转件架式多功能样品台(5)上，并与真空室外气体离子清洗电源(1)相连，电弧金属离子源(2)为30个，离子源与镀件(3)间距为150mm。