| 发明名称 | 一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法 | ||
| 摘要 | 一种薄膜结构及薄膜结构的形成方法。方法包含下列步骤：提供一薄膜；图案化薄膜，形成一图案部份、一透明部份于薄膜上，其中一图案部份及一透明部份的交界处为一边界；以及形成多数个小孔于一边界周围的透明部份上，形成薄膜结构。 | ||
| 申请公布号 | CN101524942A | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
| 申请号 | CN200810006536.9 | 申请日期 | 2008.03.06 |
| 申请人 | 华硕电脑股份有限公司 | 发明人 | 施崇棠;张木财;陈富明 |
| 分类号 | B44C1/165(2006.01)I;B41M5/025(2006.01)I | 主分类号 | B44C1/165(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 梁 挥;祁建国 |
| 主权项 | 1.一种薄膜结构，其特征是，包含：一图案部份；一透明部份；一边界，位于上述图案部份及上述透明部份的交界处；以及多数个小孔，形成于上述边界周围的透明部份上。 | ||
| 地址 | 台湾省台北市北投区立德路150号4楼 | ||