发明名称 光学治疗系统及用于该系统的调整元件
摘要 本发明提供了一种光学治疗系统,包括第一光学窗口(20)、光源(14)、控制单元(18),控制单元用于控制光源(14)以使得在第一光学窗口(20)的光辐射具有预先确定的第一值的至少一个光学参数,以及包括具有第二光学窗口(34)的至少一个发射调整元件(30),其可被布置以使得光辐射可以经由第二光学窗口(34)发射,所述光学治疗系统还包括光学参数控制装置(36,38;42;46,48,50;52;54),其被安排以控制所述至少一个光学参数以在第二光学窗口(34)具有预先确定的第二值。光学参数控制装置可以是主动的,并且影响控制单元(18)或光源(14),和/或是被动的,并且通过滤光、反射、吸收等来影响通过第一光学窗口(20)发射的辐射。因此,即使第二窗口具有不同的形状或面积或者辐射已被其他所影响,该系统也能够提供具有已知的、预先确定的并且因而更可靠的属性的辐射。
申请公布号 CN101528148A 申请公布日期 2009.09.09
申请号 CN200780039335.2 申请日期 2007.10.16
申请人 皇家飞利浦电子股份有限公司 发明人 R·费特尼尔;G·鲁森
分类号 A61B18/20(2006.01)I 主分类号 A61B18/20(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 代理人 吴立明
主权项 1.一种光学治疗系统,包括:-具有第一光学窗口(20)的机壳(10),-在所述机壳(10)内用于提供光辐射的光源(14),-控制单元(18),用于控制所述光源(14)使得所述系统能够在所述第一光学窗口(20)提供光辐射,该光辐射的至少一个光学参数具有预先确定的第一值,以及-至少一个光辐射发射调整元件(30)与第二光学窗口(34)的组件,所述调整元件(30)可相对于所述光源(14)布置,使得所述光辐射的至少一部分能够经由所述第二光学窗口(34)而发射,其特征在于:所述系统还包括光学参数控制装置(36,38;42;46,48,50;52;54),该光学参数控制装置被安排用于控制所述至少一个光学参数以在所述第二光学窗口(34)具有预先确定的第二值。
地址 荷兰艾恩德霍芬市