高分子化合物、酸发生剂、正型抗蚀剂组合物、和抗蚀图案形成方法

摘要

本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2-1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。

主权项

1.一种高分子化合物，其特征在于，包含：从具有酸解离性溶解抑制基团的丙烯酸酯或α位被碳原子数1～5的低级烷基取代的丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2—1)表示的结构单元(a2)、和从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的丙烯酸酯或α位被碳原子数1～5的低级烷基取代的丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)；【化1】在式中，R是氢原子或者碳原子数1～5的低级烷基，A是碳原子数为1～20的直链状、支链状或环状的亚烷基，或者是从碳原子数为4～20的芳香环去除2个氢原子而成的基团，B是碳原子数为1～20的直链状、支链状或环状的烷基，或者是从碳原子数为4～20的芳香环去除1个氢原子而成的基团，X是硫原子或者碘原子，n是1或者2，Y是未取代的直链、支链或者环状的烷基、或者是至少一个氢原子被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基；所述结构单元(a1)、所述结构单元(a2)、所述结构单元(a3)的比例相对于构成该高分子化合物的全部结构单元，结构单元(a1)为10～80摩尔％，结构单元(a2)为0.01～70摩尔％，结构单元(a3)为10～35摩尔％。