涂敷·显影装置和涂敷·显影方法

摘要

本发明提供一种涂敷·显影装置，其具备：处理块，在晶片上形成抗蚀剂膜后，将其运送至曝光装置，并对曝光后的基板进行显影处理；和设置在处理块和曝光装置之间的接口运送机构，上述处理块具有涂敷膜形成用的单位块、和显影处理用的单位块，它们以层叠的状态配置。在接口块运送机构发生异常时，对存在于涂敷膜形成用的单位块内的晶片，在该单位块内进行了通常的处理后，使处理后的晶片退避至收纳组件，并且禁止晶片向涂敷膜形成用的单位块内的运入。

主权项

1. 一种涂敷·显影装置，具备：承载块，用于运入运出可以搭载多个基板的承载器；处理块，将运入上述承载块的承载器内的基板运入，并对基板进行包含抗蚀剂膜的涂敷膜的形成、和对其涂敷膜实施的曝光后的显影、以及这些处理附带的热处理；和接口块，设在上述处理块和对基板上形成的涂敷膜进行曝光处理的曝光装置之间，用于在上述处理块和上述曝光装置之间进行基板的交接，在从上述承载器运入上述处理块的基板上形成包含抗蚀剂膜的涂敷膜后，将上述基板经由上述接口块运送至上述曝光装置，并使曝光后的基板经由上述接口块返回上述处理块，在该处进行显影处理后，交接至上述承载块，其特征在于，上述处理块包括：一个或相互层叠的多个涂敷膜形成用的单位块、和相对于上述涂敷膜形成用的单位块层叠的显影处理用的单位块，上述涂敷膜形成用的单位块具备：用于将药液涂敷在基板上的液体处理组件；加热基板的加热组件；冷却基板的冷却组件；在这些组件之间运送基板的第1运送机构；和退避用的第1基板收纳部，设在上述涂敷膜形成用的单位块上，且可以收纳片数对应于该单位块中的基板的收纳片数的基板，还具备：第2运送机构，夹设在上述处理块和上述曝光装置之间，且在它们之间运送基板；和输出控制指令的控制装置，该指令用于在上述第2运送机构发生异常时，控制该单位块内的上述第1运送机构，使得在对存在于上述涂敷膜形成用的单位块内的基板，在该单位块内进行了通常的处理后，使基板退避至上述第1基板收纳部，并且禁止基板向上述涂敷膜形成用的单位块内的运入。