| 发明名称 | 自组装单层的形成 | ||
| 摘要 | 在基材的至少一个表面上形成SAM的方法，通过将2-单，或2，2-二取代的1，3-二硫杂环戊烷施加到所述表面上从而在所述表面上形成由此制备的SAM。 | ||
| 申请公布号 | CN100537676C | 申请公布日期 | 2009.09.09 |
| 申请号 | CN200480033909.1 | 申请日期 | 2004.11.16 |
| 申请人 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 发明人 | D·布尔丁斯基 |
| 分类号 | C09D11/00(2006.01)I;B05D1/28(2006.01)I;G03F7/00(2006.01)I;G03F7/16(2006.01)I | 主分类号 | C09D11/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 韦欣华;段晓玲 |
| 主权项 | 1. 在基材的至少一个表面上形成SAM的方法，通过将2-单，或2，2-二取代的1，3-二硫杂环戊烷施加到所述表面从而在所述表面上形成由此制备的SAM。 | ||
| 地址 | 荷兰艾恩德霍芬 | ||