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经营范围
发明名称
半导体装置及其制造方法
摘要
一种半导体装置具有形成于一半导体基材上方的一第一绝缘膜,形成于该第一绝缘膜中的一第一开口,沿着该第一开口之内壁形成的一第一氧化锰膜,埋入于该第一开口中的一第一铜布线,及形成于该第一铜布线上之一包括碳的第二氧化锰膜。
申请公布号
TW200937604
申请公布日期
2009.09.01
申请号
TW097144489
申请日期
2008.11.18
申请人
富士通微电子股份有限公司
发明人
工藤宽;大塚信幸;羽根田雅希;大和田保
分类号
H01L23/52(2006.01);H01L21/768(2006.01);H01L21/3205(2006.01)
主分类号
H01L23/52(2006.01)
代理机构
代理人
恽轶群;陈文郎
主权项
地址
日本
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