发明名称 表面反射防止膜形成用组成物及使用它之图案形成方法
摘要 本发明之课题系藉由谋求表面反射防止膜形成用组成物的低涂布量化并藉此来减少废液量,在防止对环境产生不良影响之同时,谋求在形成光阻图案时削减成本。本发明的解决手段系提供一种表面反射防止膜形成用组成物,其系由至少1种含氟的化合物、下述通式(1)所示之4级铵化合物(式中,R#sP!1#eP!、R#sP!2#eP!、R#sP!3#eP!及R#sP!4#eP!之中至少一者系表示烷醇基,其他系表示氢或碳数1~10的烷基,X#sP!-#eP!系表示羟基、卤化物离子、硫酸离子)及按照必要之水溶性聚合物、酸、界面活性剂、水性溶剂所构成。通式(1):#P 097148488P01.bmp
申请公布号 TW200937128 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097148488 申请日期 2008.12.12
申请人 AZ电子材料股份有限公司 发明人 秋山靖;能谷刚;仓本胜利;高野佑辅
分类号 G03F7/11(2006.01);G03F7/039(2006.01);C08K5/19(2006.01);C08K5/095(2006.01);C08K5/42(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/11(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项
地址 日本