发明名称 场效电晶体、半导体晶片及半导体装置
摘要 本发明提供一种均匀性或生产性高,同时就高频性能而言,杂讯指数小、且附随增益大之场效电晶体(FET)、具备该FET之半导体晶片及半导体装置。本发明之FET1,系在GaAs半导体基板2之上,堆叠i型GaAs缓冲层3及i型lnGaAs二维电子气体层4及n型AlGaAs电子供给层5,在n型AlGaAs电子供给层5之上,堆叠有:n型InGaP蚀刻停止层6,其具以线状肖特基性接触之闸电极12,从闸极12之两侧分离且在n型AlGaAs电子供给层5之上;接着于同程度之横位置堆叠n型GaAs接触层7;n型GaAs接触层7之上,就从接触层7之端分离而成带状欧姆性接触之电极而言,于各侧具源极9及汲极10。
申请公布号 TW200937633 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097136629 申请日期 2008.09.24
申请人 NEC电子股份有限公司 发明人 浅井周二;富士原明;松野下诚;佐仓直喜;市川清治
分类号 H01L29/772(2006.01);H01L29/812(2006.01) 主分类号 H01L29/772(2006.01)
代理机构 代理人 周良谋;周良吉
主权项
地址 日本
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