包含支架，ＶＩＩＩＢ族金属及ＶＩＩＢ族金属之重组触媒之制备方法

摘要

本发明系关于制备包含支架、VIIIB族金属及VIIB金属之重组触媒之方法，该方法包含下述步骤，其顺序为a)随后b)或b)随后a)：　步骤a)用包含VIIIB族金属之盐酸水溶液浸渍支架；　步骤b)在还原性环境中用包含VIIB族金属及含硫错合剂之水溶液浸渍该支架，或步骤b)在还原性环境中用包含VIIB族金属之水溶液、随后用包含含硫错合剂之溶液实施浸渍。该还原性环境系选自由以下组成之群：包含多于0.1重量％之还原性气体或还原性气体混合物的还原性氛围，使用相对VIIB族金属包含0.1至20当量范围内之还原性金属、还原性有机化合物或无机还原性化合物之还原性溶液。