发明名称 吸附装置
摘要
申请公布号 TWM364271 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW098202411 申请日期 2009.02.19
申请人 英华达股份有限公司 INVENTEC APPLIANCES CORP. 台北县五股乡五股工业区五工五路37号 发明人 李桂
分类号 H01L21/677 (2006.01) 主分类号 H01L21/677 (2006.01)
代理机构 代理人 谢志敏 台北县中和市中正路738号11楼之5
主权项 1.一种吸附装置,包含:一腔体,具有与该腔体连通之一第一连接孔、一第二连接孔以及一操作口;一空气泵,连接至该第一连接孔,用以提供该腔体一气压;以及一吸嘴,与该第二连接孔连接;其中当该操作口被堵塞且该吸嘴靠近一物体时,该物体系受该气压吸引而吸附于该吸嘴上,并且当该操作口通畅时,该吸嘴系释放该物体。2.如申请专利范围第1项所述之吸附装置,其中一导管系连接于该腔体与该空气泵之间,该空气泵系经由该导管提供该气压。3.如申请专利范围第2项所述之吸附装置,其中该气压系使该腔体内的压力大于导管内的压力。4.如申请专利范围第1项所述之吸附装置,其中该吸嘴系为一橡胶材质。5.如申请专利范围第1项所述之吸附装置,其中该腔体系为一塑胶材质。6.如申请专利范围第1项所述之吸附装置,其中该操作口系呈圆形。7.如申请专利范围第1项所述之吸附装置,其中该物体为一IC晶片。图式简单说明:图一系绘示根据本创作之一具体实施例之吸附装置的爆炸图。图二系绘示根据本创作之一具体实施例之吸附装置的示意图。
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