发明名称 晶圆清洗机台
摘要 一种晶圆清洗机台,适用于对晶圆的第一待清洗面进行清洗。晶圆清洗机台包括壳体、旋转装置、罩体、至少一个第一条状喷洒器及至少一个排气装置。旋转装置配置于壳体内,用以承载晶圆并垂直于地面进行旋转。罩体配置于壳体中并覆盖旋转装置。第一条状喷洒器配置于旋转装置的一侧,用以喷洒一挥发性清洗液至晶圆的第一待清洗面,且所喷洒的挥发性清洗液呈条状。排气装置配置于该壳体的侧壁上。
申请公布号 TW200937507 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097106513 申请日期 2008.02.25
申请人 联华电子股份有限公司 发明人 高明星;吴建明;陈文雄
分类号 H01L21/30(2006.01) 主分类号 H01L21/30(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号