发明名称 | 晶圆清洗机台 | ||
摘要 | 一种晶圆清洗机台,适用于对晶圆的第一待清洗面进行清洗。晶圆清洗机台包括壳体、旋转装置、罩体、至少一个第一条状喷洒器及至少一个排气装置。旋转装置配置于壳体内,用以承载晶圆并垂直于地面进行旋转。罩体配置于壳体中并覆盖旋转装置。第一条状喷洒器配置于旋转装置的一侧,用以喷洒一挥发性清洗液至晶圆的第一待清洗面,且所喷洒的挥发性清洗液呈条状。排气装置配置于该壳体的侧壁上。 | ||
申请公布号 | TW200937507 | 申请公布日期 | 2009.09.01 |
申请号 | TW097106513 | 申请日期 | 2008.02.25 |
申请人 | 联华电子股份有限公司 | 发明人 | 高明星;吴建明;陈文雄 |
分类号 | H01L21/30(2006.01) | 主分类号 | H01L21/30(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹市新竹科学工业园区力行二路3号 |