发明名称 电浆成膜方法以及电浆CVD装置
摘要 于利用电容耦合型电浆CVD装置的成膜过程中,藉由对低频RF电源进行脉冲控制而在产生电弧放电之前周期性地抑制高温电子的密度,藉此,可抑制电弧放电的产生。脉冲控制中,将实施电力供给的接通时间与停止电力供给的断开时间作为一个期间,以周期性地反覆实施电力供给。脉冲控制中,将停止电力供给之后的电浆中的电子密度的下降过程中、电子密度自停止电力供给起直至达到产生电弧放电的残留电浆临限值为止的时间,与停止电力供给之后的电浆中的高温电子的密度下降过程中、自停止电力供给起直至达到特定的电浆状态为止的时间之间的时间间隔,作为停止电力供给的断开时间,并将开始电力供给之后电浆中的高温电子密度的上升过程中的饱和时间作为电力供给的接通时间的上限,于上述条件下间断地供给电力。
申请公布号 TW200936801 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097140683 申请日期 2008.10.23
申请人 岛津制作所股份有限公司 发明人 铃木正康
分类号 C23C16/515(2006.01);H01L21/285(2006.01) 主分类号 C23C16/515(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 日本