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发明名称
由聚醯胺酸溶液制造聚亚醯胺薄膜的低温制法
摘要
本发明系一种由聚亚醯胺酸溶液制造聚亚醯胺薄膜的低温制法,该方法系利用一聚亚醯胺酸溶液于低压下可低温反应以形成聚亚醯胺薄膜,该方法可不需藉由高温环境或添加三级胺或脱水剂就可以形成聚亚醯胺薄膜,藉此可以避免聚亚醯胺薄膜含有杂质,或于制造聚亚醯胺薄膜时因高温破坏基板上电子元件和其导电性质的可能性。
申请公布号
TW200936646
申请公布日期
2009.09.01
申请号
TW097107048
申请日期
2008.02.29
申请人
国立高雄应用科技大学
发明人
林荣显
分类号
C08G73/10(2006.01);C08J5/18(2006.01)
主分类号
C08G73/10(2006.01)
代理机构
代理人
桂齐恒;阎启泰
主权项
地址
高雄市三民区建工路415号
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