发明名称 曝光设备及装置制造方法
摘要 一曝光设备包括计算单元,该计算单元根据从该投影光学系统之影像平面离焦之量与藉由该投影光学系统所形成之影像之位置间的关系,计算代表该投影光学系统之光学特性的资讯。
申请公布号 TW200937495 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097136471 申请日期 2008.09.23
申请人 佳能股份有限公司 发明人 盐出吉宏
分类号 H01L21/027(2006.01);G03F7/20(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本