发明名称 化学机械研磨用水系分散体及化学机械研磨方法
摘要 本发明的化学机械研磨用水系分散体系含有:(A)在骨干聚合物部中具有阴离子性官能基的接枝聚合物以及(B)研磨粒。
申请公布号 TW200936738 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW098101883 申请日期 2009.01.19
申请人 JSR股份有限公司 发明人 元成正之;国谷英一郎;植野富和;饭岛孝浩;松田隆志
分类号 C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) 主分类号 C09K3/14(2006.01)
代理机构 代理人 赖经臣;宿希成
主权项
地址 日本