发明名称 |
化学机械研磨用水系分散体及化学机械研磨方法 |
摘要 |
本发明的化学机械研磨用水系分散体系含有:(A)在骨干聚合物部中具有阴离子性官能基的接枝聚合物以及(B)研磨粒。 |
申请公布号 |
TW200936738 |
申请公布日期 |
2009.09.01 |
申请号 |
TW098101883 |
申请日期 |
2009.01.19 |
申请人 |
JSR股份有限公司 |
发明人 |
元成正之;国谷英一郎;植野富和;饭岛孝浩;松田隆志 |
分类号 |
C09K3/14(2006.01);H01L21/304(2006.01) |
主分类号 |
C09K3/14(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
主权项 |
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地址 |
日本 |