| 摘要 |
光波导是在含有无机填充材料的树脂基板上至少依序积层紫外线吸收层、下部披覆层、经图案化的芯层、及上部披覆层而成，此光波导的特征在于：芯层的图案化是藉由曝光、显影来进行，且紫外线吸收层的厚度为10 μm～50 μm。光波导之制造方法包括：在含有无机填充材料的树脂基板上形成紫外线吸收层的步骤、在紫外线吸收层上形成下部披覆层的步骤、在下部披覆层上形成芯层的步骤、对芯层进行曝光而转印设定形状的图案的步骤、进行显影而形成芯图案的步骤、及在经图案化的芯层上形成上部披覆层的步骤。根据本发明，可制造具有高解析度的芯图案的光波导。 |
