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发明名称
半导体装置及半导体装置之制造方法
摘要
以使六方晶SiC之基板之主表面朝向与正交于(0001)面之面所成之最小角度为1°以下之方向、例如与垂直于(0001)方向之[0001]方向所成之最小角度为1°以下之方向之方式而进行准备。于以上述方式准备之基板之一方主表面上,形成卧式半导体装置。藉此,可较之六方晶SiC之基板之主表面朝向沿着(0001)方向之方向的卧式半导体装置,大大改善耐电压之值。
申请公布号
TW200937631
申请公布日期
2009.09.01
申请号
TW097140182
申请日期
2008.10.20
申请人
住友电气工业股份有限公司
发明人
藤川一洋;原田真
分类号
H01L29/04(2006.01);H01L29/66(2006.01);H01L21/77(2006.01)
主分类号
H01L29/04(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
日本
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