发明名称 半导体装置及半导体装置之制造方法
摘要 以使六方晶SiC之基板之主表面朝向与正交于(0001)面之面所成之最小角度为1°以下之方向、例如与垂直于(0001)方向之[0001]方向所成之最小角度为1°以下之方向之方式而进行准备。于以上述方式准备之基板之一方主表面上,形成卧式半导体装置。藉此,可较之六方晶SiC之基板之主表面朝向沿着(0001)方向之方向的卧式半导体装置,大大改善耐电压之值。
申请公布号 TW200937631 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097140182 申请日期 2008.10.20
申请人 住友电气工业股份有限公司 发明人 藤川一洋;原田真
分类号 H01L29/04(2006.01);H01L29/66(2006.01);H01L21/77(2006.01) 主分类号 H01L29/04(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本