发明名称 |
形成取代金属闸极之氮化物应力层之方法以及藉此形成之结构 |
摘要 |
形成微电子装置之方法以及关联结构。这些方法可包含从金属闸极结构移除剩余介电材料,以及然后于金属闸极结构之顶表面上及侧壁区域上形成应力释放层。将应力导入至设置在金属闸极结构下方之通道区域内。 |
申请公布号 |
TW200937533 |
申请公布日期 |
2009.09.01 |
申请号 |
TW097136326 |
申请日期 |
2008.09.22 |
申请人 |
英特尔股份有限公司 |
发明人 |
席弗瑞 路希恩;萨瓦斯基 凯斯 |
分类号 |
H01L21/336(2006.01);H01L29/78(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/336(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
美国 |