发明名称 形成取代金属闸极之氮化物应力层之方法以及藉此形成之结构
摘要 形成微电子装置之方法以及关联结构。这些方法可包含从金属闸极结构移除剩余介电材料,以及然后于金属闸极结构之顶表面上及侧壁区域上形成应力释放层。将应力导入至设置在金属闸极结构下方之通道区域内。
申请公布号 TW200937533 申请公布日期 2009.09.01
申请号 TW097136326 申请日期 2008.09.22
申请人 英特尔股份有限公司 发明人 席弗瑞 路希恩;萨瓦斯基 凯斯
分类号 H01L21/336(2006.01);H01L29/78(2006.01) 主分类号 H01L21/336(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 美国